武汉赠与房产外地户口:谁知道MOS工艺的基本流程?

来源:百度文库 编辑:杭州交通信息网 时间:2024/04/29 04:15:48

MOS场效应管的制作流程。。。你要这个干嘛。。。砸给你 接好了!

??1.将硅单晶切成大圆片,并加以研磨、抛光。
??2.抛光后的片子经仔细清洗后,热生长一层二氧化硅层。(一次氧化)
??3.用光刻技术可除漏、源扩散窗口上的二氧化硅。(一次光刻)
??4.进行选择性的杂质扩散。
??5.去处所有二氧化硅,重新生长一层质量良好的栅极二氧化硅层,并进行磷处理。(二次氧化+磷处理)
??6.刻除漏、源引线窗口上的二氧化硅。(二次光刻)
??7.在真空系统中蒸发铝。(铝蒸发)
??8.反刻电极。
??9.进行合金。
??10.检出性能良好的管芯,烧焊在管座上,键合引线。
??11.监察质量(中测)
??12.封上管帽,喷漆。
??13.总测。
??14.打印,包装。